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掩膜版检测.jpg

掩膜版检测.jpg

半导体掩模检测

掩模版检测中，细微缺陷会在光刻中被成倍放大，影响芯片批次质量。相机需具备极致分辨率、精细对比度还原能力，适配深紫外乃至极紫外波段，且性能高度稳定、长期一致，确保检测结果可靠可重复。

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