软X射线&EUV探测

软X射线与EUV探测中，纳米缺陷及瞬态信号直接影响光刻良率与诊断精度。相机需超高分辨率与超低噪声，以分辨掩模缺陷、等离子体细丝及材料界面；零级强光与微弱散射/衍射信号共存及辐射风险，对动态范围、抗饱和与耐辐照提出挑战。